HMK R165 Usuwacz cementu i wykwitów 1l

HMK R165 Usuwacz cementowego nalotu i wykwitów to specjalistyczny środek czyszczący (koncentrat)

Usuwa silny cementowy nalot, uporczywe osady wapienne, resztki zaprawy i wykwity ze wszystkich kwasoodpornych kamieni naturalnych i sztucznych, nieglazurowanych płytek, chropowatych betonowych elementów, okładzin z cegły, gliny i cotto zarówno wewnątrz, jak i na zewnątrz budynków.

Wydajność: ok. 10-40 m²/litr

Usuwacz cementowego nalotu HMK R165

• to kwaśny specjalistyczny koncentrat czyszczący do usuwania silnego cementowego nalotu, uporczywych osadów wapiennych, resztek zaprawy i wykwitów z okładzin cotto, glinianych, ceglastych i klinkierowych, nieglazurowanych płytek, wszystkich kwasoodpornych kamieni naturalnych i sztucznych oraz chropowatych betonowych elementów wewnątrz i na zewnątrz.
• rozpuszcza i usuwa dzięki połączeniu specjalnych składników czyszczących i aktywnych substancji pomocniczych szybko i skutecznie resztki zaprawy, silny cementowy nalot, stwardniały brud budowlany, wykwity, lekką rdza powierzchniową, resztki fug i uporczywe osady wapienne.
• jest przeznaczony do stosowania na okładzinach cotto, glinianych, ceglastych i klinkierowych, płytach łupanych, płytkach ceramicznych, gresie, wszystkich kwasoodpornych kamieniach naturalnych i sztucznych, piaskowcu, chropowatych betonowych elementach, powierzchniach betonowych widocznych i mytych wewnątrz i na zewnątrz. Do granitu, gnejsu i kamieni twardych podatnych na rdzę zalecamy stosowanie HMK® R169, aby wykluczyć ewentualne żółte przebarwienia.

STOSOWANIE: Zwilżyć dokładnie powierzchnię wodą. HMK® R165
rozcieńczyć w zależności od zabrudzenia w stosunku 1:2 do 1:10 z wodą, nanieść i wcierać za pomocą szczotki, szczotki z twardym włosiem lub odpowiedniej pady. Pozostawić na krótko do działania (nie dopuścić do wyschnięcia). Ponownie wcierać i zebrać brudną wodę. Następnie nanieść HMK® R155 środek do gruntownego czyszczenia – bezkwasowy, rozcieńczony ok. 1:20 z wodą, wcierać i zebrać brudną wodę. Na koniec dokładnie spłukać czystą wodą. Jeśli po wyschnięciu powierzchni pojawią się jeszcze niedoczyszczone miejsca, należy powtórzyć czyszczenie w tych miejscach. Przy użyciu odkurzaczy wodnych zalecamy dodanie HMK® Z702 środek przeciwpieniący do zbiornika na brudną wodę w celu regulacji piany.

WAŻNE: Nie stosować na polerowany i drobno szlifowany marmur, kamienie wapienne lub betonowe oraz inne kamienie wrażliwe na kwasy i dekoracyjne płytki. Powierzchnie lakierowane, woskowane lub bejcowane drewno, emalia, anodowane aluminium, metal oraz powierzchnie wrażliwe na kwasy, wyposażenie i urządzenia takie jak klimatyzatory, lampy, komputery, lustra, tworzywa sztuczne itp. mogą zostać uszkodzone przez HMK® R165 lub jego opary.

TEMPERATURA PRACY: Idealna temperatura powierzchni do obróbki wynosi od +12°C do +25°C. Nie stosować w bezpośrednim nasłonecznieniu.

Prosimy o zapoznanie się z instrukcjami stosowania, informacjami bezpieczeństwa oraz dodatkowymi informacjami o produkcie w naszej karcie technicznej (patrz sekcja Pobierz).