HMK R175 Serizzio- i środek do czyszczenia kamienia to specjalistyczny koncentrat czyszczący
Usuwa osady cementowe, kamień wapienny, resztki zaprawy, rdzę oraz stwardniałe zabrudzenia budowlane ze wszystkich kwasoodpornych kamieni naturalnych i sztucznych na zewnątrz. Dzięki zawartym dodatkom antykorozyjnym HMK R175 doskonale nadaje się do czyszczenia podatnych na rdzę, także polerowanych kamieni twardych. Przy użyciu odkurzaczy wodnych zalecamy dodanie do odkurzacza środka przeciwpieniącego HMK Z702 (regulacja piany).
Wydajność: ok. 10-50 m²/litr
Precyzyjne czyszczenie kamienia naturalnego na zewnątrz - HMK R175
- to kwaśny koncentrat do czyszczenia kamienia z komponentami antykorozyjnymi do usuwania osadów cementowych, kamienia wapiennego, resztek zaprawy ze wszystkich kwasoodpornych kamieni naturalnych i sztucznych na zewnątrz.
- poprzez połączenie specjalnych składników czyszczących i aktywnych substancji pomocniczych szybko i skutecznie rozpuszcza i usuwa resztki zaprawy, osady cementowe, stwardniałe zabrudzenia budowlane, lekką rdzę powierzchniową, resztki fug, pozostałości po szlifowaniu oraz uporczywe osady kamienia wapiennego. Dzięki zawartym dodatkom antykorozyjnym HMK® R175 doskonale nadaje się do czyszczenia podatnych na rdzę, także polerowanych kamieni twardych.
- jest przeznaczony do stosowania na wszystkich kwasoodpornych kamieniach naturalnych i sztucznych, piaskowcu, granicie, gnejsie, chropowatym betonie kamiennym itp. na zewnątrz.
STOSOWANIE: Dokładnie zwilżyć powierzchnię wodą. HMK® R175
rozcieńczyć wodą w stosunku 1:2 do 1:15 w zależności od zabrudzenia, nanieść i wcierać szczotką, szczotką z twardym włosiem lub odpowiednią padą. Pozostawić na krótko do działania (nie dopuścić do wyschnięcia). Ponownie wyczyścić i zebrać brudną wodę.
Następnie nanieść HMK® R155 środek do gruntownego czyszczenia – bezkwasowy, rozcieńczony ok. 1:20 wodą, wyczyścić i zebrać brudną wodę. Na koniec dokładnie spłukać czyszczoną powierzchnię czystą wodą. Jeśli po wyschnięciu powierzchni pojawią się jeszcze niedoczyszczone miejsca, należy powtórzyć czyszczenie w tych miejscach. Przy użyciu odkurzaczy wodnych zalecamy dodanie do zbiornika na brudną wodę środka przeciwpieniącego HMK® Z702 w celu regulacji piany.
WAŻNE: Nie stosować na polerowany i drobno szlifowany marmur, kamienie wapienne, beton kamienny oraz inne kamienie wrażliwe na kwasy i dekoracyjne płytki. Powierzchnie lakierowane, woskowane lub bejcowane drewno, emalia, anodowane aluminium,
metal oraz powierzchnie wrażliwe na kwasy, wyposażenie i urządzenia takie jak klimatyzatory, lampy, komputery, lustra, tworzywa sztuczne itp. mogą ulec uszkodzeniu przez HMK® R175 lub jego opary.
TEMPERATURA PRACY: Optymalna temperatura stosowania na czyszczonej powierzchni wynosi od +12°C do +25°C. Nie stosować w bezpośrednim nasłonecznieniu.
Prosimy o zapoznanie się z instrukcjami stosowania, informacjami bezpieczeństwa oraz dodatkowymi informacjami o produkcie w naszej karcie technicznej (patrz sekcja Pobierz).
